硷性化合物、化学增幅型光阻材料及图案形成方法

摘要

本发明提供一种化学增幅型光阻材料，系含有基础聚合物、以式(1)表示之硷性化合物、及酸发生剂。;(1);(R1为氢原子、烷基、芳基、芳烷基、烯基、炔基或含杂环之基团，该等基也可复合，该等基也可具有羟基等，或R1也可为酸不稳定基。R为氢原子、巯基、羟基或烷基，或也可与式(1)中之氮原子键结并形成环。R2为酸不稳定基，R3、R4为氢原子或烷基，m为2~4之整数。);本发明之光阻材料，于曝光前后之硷溶解速度对比度大幅提高，且具高解像性，曝光后之图案形状良好、粗糙度小、且呈现聚焦界限(DOF)广的特征。

主权项

一种化学增幅型光阻材料，其特征为包含：基础聚合物、及以下列通式(1)表示之硷性化合物、及酸发生剂：(式中，R1为氢原子、碳数1~30之直链状、分支状或环状之烷基、碳数6~30之芳基、碳数7~30之芳烷基、碳数2~30之烯基、碳数2~10之炔基、或碳数4~12之含杂环之基团，该等基也可复合，又，该等基也可具有羟基、巯基、羧基、醚基、硫醚基(thioether group)、酯基、磺酸酯基、磺醯基、内酯环、羰基、氰基、硝基、卤素原子、三氟甲基、醯胺基、醯亚胺基、磺醯胺基、碳酸酯基、硫醚基(sulfide group)、-N=CR-O-、-N=CR-S-、=N-O-N=中任一者，或R1也可为酸不稳定基；R为氢原子、巯基、羟基、或碳数1~3之烷基，或也可与式(1)中之氮原子键结而形成环；R2为酸不稳定基，R3、R4为氢原子、或碳数1~4之直链状或分支状之烷基；m为3或4)。