| 发明名称 |
半导体制程方法及半导体制程设备;SEMICONDUCTOR PROCESSING METHOD AND SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS |
| 摘要 |
本发明系关于一种半导体制程方法,该方法包括:提供一半导体基板;探测前述半导体基板上之一表面区域,以判断前述表面区域是否具有多余的电荷;以及,根据是否存在多余的电荷,选择性地感应一电晕放电以减少前述多余的电荷。本发明亦提供其他技术。 |
| 申请公布号 |
TW201430902 |
申请公布日期 |
2014.08.01 |
| 申请号 |
TW102146357 |
申请日期 |
2013.12.16 |
| 申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
吴林荣;许志修;杨棋铭 |
| 分类号 |
H01L21/02(2006.01);H01L21/66(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>洪澄文</name><name>颜锦顺</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
