发明名称 用于清洗晶圆的盘式载具
摘要 本实用新型公开一种用于清洗晶圆的盘式载具。盘式载具包括一清洗槽及一环绕在清洗槽周围的环形槽。并于清洗槽与环形槽之间设置有一排放槽。清洗槽与排放槽之间连接有至少一第一流道,环形槽与排放槽之间连接有至少一第二流道。当贴附有胶膜的晶圆置于盘式载具时,可使得该晶圆对应于清洗槽,未被晶圆遮蔽的胶膜则对应于环形槽。如此,通过第一流道提供一第一流体注入到清洗槽内并对晶圆进行清洗,再通过第二流道提供一第二流体注入到环形槽内,并以第二流体限制第一流体不接触到胶膜。
申请公布号 CN203746808U 申请公布日期 2014.07.30
申请号 CN201420061853.1 申请日期 2014.02.11
申请人 勤友光电股份有限公司 发明人 吴志重;欧昌沛;梁峰泊;李志洋
分类号 H01L21/673(2006.01)I 主分类号 H01L21/673(2006.01)I
代理机构 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人 许志勇
主权项 一种用于清洗晶圆的盘式载具,用以供一晶圆装配,该晶圆贴附有一胶膜,并以该胶膜将该晶圆置于一框架之中,其特征在于,该盘式载具包括:一清洗槽;一环形槽,环绕在该清洗槽的周围;一排放槽,设置于该清洗槽与该环形槽之间;至少一第一流道,连通该清洗槽与该排放槽;以及至少一第二流道,连通该环形槽与该排放槽;其中,该盘式载具用以供该框架置放于其上,令该晶圆对应于该清洗槽,该胶膜未被该晶圆遮蔽的部分对应于该环形槽,该第一流道用以提供一第一流体注入到该清洗槽内,并以该第一流体清洗该晶圆,该第二流道用以提供一第二流体注入到该环形槽内,并以该第二流体限制该第一流体不接触到该胶膜。
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