| 发明名称 | 一种用于半导体集成电路中的显影液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于半导体集成电路中的显影液，所述显影液包括有壬基酚聚氧乙烯醚、四甲基氢氧化铵和超纯水。通过上述方式，本发明的用于半导体集成电路中的显影液具有生产成本低、显影性能良好、金属离子含量低和适用范围广等优点，能广泛使用在半导体集成电路制造过程的光刻工艺中，显影后显影残渣少、图形光滑、图形边缘清晰整齐且无图形坍塌。 | ||
| 申请公布号 | CN103955119A | 申请公布日期 | 2014.07.30 |
| 申请号 | CN201410153317.9 | 申请日期 | 2014.04.17 |
| 申请人 | 富士胶片电子材料（苏州）有限公司 | 发明人 | 江磊;金旭 |
| 分类号 | G03F7/32(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人 | 徐萍 |
| 主权项 | 一种用于半导体集成电路中的显影液，其特征在于，所述显影液包括有壬基酚聚氧乙烯醚、四甲基氢氧化铵和超纯水。 | ||
| 地址 | 215021 江苏省苏州市苏州工业园区龙潭路206号 | ||