一种用于区熔炉的气体控制系统

摘要

本实用新型涉及非金属晶体制造设备，旨在提供一种用于区熔炉的气体控制系统；该实用新型包括气体控制箱、质量流量计、压力控制器、气体过滤器和区熔炉体；所述区熔炉体包括上炉室、主炉室和下炉室，主炉室内设有熔区；气体控制箱内设有两路炉体进气管路，且该两路炉体进气管路连接到主炉室上，该两路炉体进气管路上均设有气体过滤器和质量流量计。该实用新型的有益效果是：它具有高精度的压力稳定控制和气体流量控制，优选的气体流通路径可带走炉内杂质，提高熔区洁净度和拉制单晶纯度；保护气体可保证熔区周围气体压力，提高熔区稳定性，掺杂气体对准熔区可直接有效地将掺杂元素渗入熔硅中，以达到改变硅单晶相关品质性能的目的。

主权项

一种用于区熔炉的气体控制系统，包括气体控制箱，其特征在于，还包括质量流量计、压力控制器、气体过滤器和区熔炉体；所述区熔炉体包括上炉室、主炉室和下炉室，其中主炉室内设有熔区；所述气体控制箱内设有两路炉体进气管路，分别为保护气体进气管路和掺杂气体进气管路；且该两路炉体进气管路连接到主炉室上；所述两路炉体进气管路上均设有气体过滤器和质量流量计；所述区熔炉体的上炉室顶部和下炉室底部各设有一路回气管路，且该两路回气管路上均设有气体过滤器、质量流量计或压力控制器。