发明名称 |
用于处理基板的腔室 |
摘要 |
本实用新型提供了一种用于处理基板的腔室,所述腔室包括箍组件,箍组件包括:限制环,该限制环于该限制环内限定限制区;及三或更多个升降指,该三或更多个升降指附接于该箍。该三或更多个升降指经设置以支撑在限制环的内容积外的基板。 |
申请公布号 |
CN203746815U |
申请公布日期 |
2014.07.30 |
申请号 |
CN201320533432.X |
申请日期 |
2012.02.29 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
杰瑞德·阿哈默德·里;马丁·杰夫·萨里纳斯;保罗·B·路透;伊玛德·尤瑟夫;阿尼鲁达·帕尔 |
分类号 |
H01L21/687(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/687(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;赵静 |
主权项 |
一种用于处理基板的腔室,所述腔室包括: 腔室主体,所述腔室主体于所述腔室主体内限定腔室容积,所述腔室主体具有可密封基板转移开口; 基板支撑托架组件,所述基板支撑托架组件设置于所述腔室容积内;以及 箍组件,所述箍组件在所述腔室容积内部可移动,其中,所述箍组件包括限制环,所述限制环于所述限制环内限定限制区,所述箍组件的所述限制环在升高位置与降低位置之间可移动,并且当所述箍组件在所述降低位置时,所述限制区在所述基板支撑托架组件上方。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |