发明名称 用于处理基板的腔室
摘要 本实用新型提供了一种用于处理基板的腔室,所述腔室包括箍组件,箍组件包括:限制环,该限制环于该限制环内限定限制区;及三或更多个升降指,该三或更多个升降指附接于该箍。该三或更多个升降指经设置以支撑在限制环的内容积外的基板。
申请公布号 CN203746815U 申请公布日期 2014.07.30
申请号 CN201320533432.X 申请日期 2012.02.29
申请人 应用材料公司 发明人 杰瑞德·阿哈默德·里;马丁·杰夫·萨里纳斯;保罗·B·路透;伊玛德·尤瑟夫;阿尼鲁达·帕尔
分类号 H01L21/687(2006.01)I 主分类号 H01L21/687(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;赵静
主权项 一种用于处理基板的腔室,所述腔室包括: 腔室主体,所述腔室主体于所述腔室主体内限定腔室容积,所述腔室主体具有可密封基板转移开口; 基板支撑托架组件,所述基板支撑托架组件设置于所述腔室容积内;以及 箍组件,所述箍组件在所述腔室容积内部可移动,其中,所述箍组件包括限制环,所述限制环于所述限制环内限定限制区,所述箍组件的所述限制环在升高位置与降低位置之间可移动,并且当所述箍组件在所述降低位置时,所述限制区在所述基板支撑托架组件上方。 
地址 美国加利福尼亚州