| 发明名称 | 一种阵列基板的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明实施例公开了一种阵列基板的制备方法，涉及显示技术领域，有利于提高显示装置的分辨率。该种阵列基板的制备方法，包括：形成第一绝缘层；对所述第一绝缘层的预形成过孔区域进行亲水处理，所述预形成过孔区域对应薄膜晶体管单元的漏极设置；在所述第一绝缘层之上形成彩膜，其中，亲水处理之后的预形成过孔区域无彩膜覆盖，形成贯穿所述彩膜的第一过孔。 | ||
| 申请公布号 | CN103956335A | 申请公布日期 | 2014.07.30 |
| 申请号 | CN201410098106.X | 申请日期 | 2014.03.17 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 姚琪;张锋;曹占锋;徐传祥 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：形成第一绝缘层；对所述第一绝缘层的预形成过孔区域进行亲水处理，所述预形成过孔区域对应薄膜晶体管单元的漏极设置；在所述第一绝缘层之上形成彩膜，其中，亲水处理之后的预形成过孔区域无彩膜覆盖，形成贯穿所述彩膜的第一过孔。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||