发明名称 |
阵列基板和显示装置 |
摘要 |
本实用新型实施例公开了一种阵列基板和显示装置,涉及显示技术领域,能够使栅极绝缘层和有源层在一次构图工艺中形成,减少构图工艺次数。该阵列基板包括显示区域和非显示区域,所述显示区域和所述非显示区域上设置有栅极金属层和位于所述栅极金属层上方的数据线金属层,所述栅极金属层包括位于所述非显示区域的布线栅极金属部分和位于所述显示区域的栅线,所述数据线金属层包括位于所述显示区域的数据线,所述显示区域上设置有薄膜晶体管,所述栅线包括与所述数据线交叉的交叉栅线部分和用于构成所述薄膜晶体管的栅极,所述布线栅极金属部分、所述交叉栅线部分和所述栅极所在区域,包括依次设置的图形相同的栅极绝缘层和有源层。 |
申请公布号 |
CN203746853U |
申请公布日期 |
2014.07.30 |
申请号 |
CN201420142437.4 |
申请日期 |
2014.03.27 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
徐少颖;阎长江;李田生;谢振宇 |
分类号 |
H01L27/02(2006.01)I;H01L23/50(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种阵列基板,包括显示区域和非显示区域,所述显示区域和所述非显示区域上设置有栅极金属层和位于所述栅极金属层上方的数据线金属层,所述栅极金属层包括位于所述非显示区域的布线栅极金属部分和位于所述显示区域的栅线,所述数据线金属层包括位于所述显示区域的数据线,所述显示区域上设置有薄膜晶体管,所述栅线包括与所述数据线交叉的交叉栅线部分和用于构成所述薄膜晶体管的栅极,其特征在于,所述布线栅极金属部分、所述交叉栅线部分和所述栅极所在区域,包括依次设置的图形相同的栅极绝缘层和有源层。 |
地址 |
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号 |