溅射腔室、预清洗腔室以及等离子体加工设备

摘要

一种溅射腔室、预清洗腔室以及等离子体加工设备，所述溅射腔室包括腔体、靶、静电卡盘以及电感线圈，所述靶设置在所述腔体顶端并与电源连接，所述静电卡盘设置在所述腔体底部，所述电感线圈设置在所述腔体的外侧。该溅射腔室可以避免电感线圈被等离子体溅射，从而提高电感线圈的使用寿命，降低溅射腔室的使用成本，同时减少溅射腔室内的颗粒污染源，以及避免因电感线圈表面沉积颗粒而污染被加工工件以及提高靶的利用率。所述预清洗腔室可以将顶盖设计成易于加工的结构，避免采用加工成本较高的拱形结构，从而降低顶盖的加工成本以及提高颗粒与顶盖的附着力，减少甚至避免附着在顶盖表面的颗粒对位于顶盖下方的被加工工件的污染。

主权项

一种溅射腔室，包括腔体、靶、基座以及电感线圈，所述靶设置在所述腔体顶端并与电源连接，所述基座设置在所述腔体底部，其特征在于，所述腔体包括叠置的绝缘子腔体和第一导电子腔体，且所述绝缘子腔体位于所述第一导电子腔体的上方，所述电感线圈设置在所述绝缘子腔体的侧面外侧，并且在所述绝缘子腔体的内侧设有法拉第屏蔽件，所述绝缘子腔体的底端设有朝向绝缘子腔体中心轴凸出的凸缘，所述法拉第屏蔽件的底端放置在所述凸缘上；所述法拉第屏蔽件由金属材料制成或者由表面镀有导电材料的绝缘材料制成；所述溅射腔室还包括用于遮挡所述法拉第屏蔽件的底端与所述绝缘子腔体接缝处的第一遮挡部件，所述第一遮挡部件包括连接部和延伸部，所述连接部搭接在所述凸缘上，所述延伸部朝向所述第一导电子腔体延伸。