基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置。在真空输送室连接用于处理基板的多个处理室的基板处理装置中，抑制装置的大型化、抑制占地面积的增大。在真空输送室(13)的周围设置有对基板进行处理的多个处理室(30)。在所述真空输送室(13)的上方侧经由旋转台(6)设置第1导轨(54)，并且在所述旋转台(6)静止于对应的位置时，以位于所述导轨(54)的延长线上的方式设置第2导轨(52)。使移动体(71)沿着第1以及第2导轨(52)、(54)，移动到处理室(30)的上方侧，通过使设置于移动体(71)的盖体保持机构(8)上升来举起设置于盖体(32)的被保持部(5)，从处理室(30)打开盖体(32)。

主权项

一种基板处理装置，在内部设置有基板输送机构的真空输送室的周围，连接有预备真空室以及用于对基板进行处理的多个处理室，该多个处理室构成为在各个容器主体之上设置盖体，该基板处理装置的特征在于具备：第1引导部件，其被设置为在所述真空输送室的上方侧以从该真空输送室侧朝向外侧的方式水平地延伸且沿水平方向移动；移动体，其被该第1引导部件引导而移动；移动台，其设置于所述真空输送室的上方侧且沿水平方向移动，并且所述第1引导部件设置于该移动台；第2引导部件，其为了使所述移动体在所述处理室的上方与所述第1引导部件之间移动而引导该移动体，且该第2引导部件被设置为在所述移动台静止于对应的位置时水平地位于所述第1引导部件的延长线上；以及盖体保持机构，其设置于所述移动体，且在该移动体位于第2引导部件上时为了相对于所述容器主体装卸盖体而保持盖体并使盖体升降，并且能够在保持盖体的状态下使该移动体向第1引导部件移动。