光波导的外延制备方法

摘要

本发明公开了光波导的外延制备方法，包括在所述脊上沉积硅岛。在一些实施例中，硅岛的制作可以采用选择性外延方法或常规外延方法。在一些实施例中，第二个硅岛在第一硅岛上沉积。在一些实施例中，多个硅岛分别采用不同的方法制作。

主权项

一种光波导的选择性外延制备方法，所述光波导为脊波导上形成第一硅岛，所述制备方法包括以下步骤：一个包括顶硅层的起始硅片，通过光刻、刻蚀的方法或者下面描述的选择性外延的方法形成带脊的硅片；在所述带脊硅片的上表面沉积氧化层，所述氧化层的高度高于或等于所述光波导的第一硅岛高度；去除所述氧化层的一部分，从而在所述脊上形成立体三维的第一窗口；用选择性外延方法在所述第一窗口内沉积第一硅层，所述第一窗口的侧壁约束了所述第一硅层的生长，所述第一硅层构成位于所述脊上的第一硅岛的母体；对所述第一硅层的上表面进行平坦化处理，使得所述第一硅层的高度等于所述第一硅岛的高度，从而得到所述第一硅岛。