| 发明名称 | 一种用于太阳能硅片制造的清洗液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于太阳能硅片制造的清洗液，由非离子表面活性剂，阴离子表面活性剂，金属离子络合剂，缓蚀剂和余量去离子水组成。本发明清洗液呈中性，pH值为6～8，不含磷，铬添加剂，使用量少，对硅片无过腐蚀，清洗污垢快，成本低，对硅片表面的洗涤性能高，清洗成品合格率在99%以上，对接触的操作人员无毒害腐蚀伤害，使用安全，适用于自动超声波清洗生产线。 | ||
| 申请公布号 | CN103952246A | 申请公布日期 | 2014.07.30 |
| 申请号 | CN201410075280.2 | 申请日期 | 2014.03.03 |
| 申请人 | 西安通鑫半导体辅料有限公司 | 发明人 | 李新家;贾明 |
| 分类号 | C11D1/83(2006.01)I;C11D3/60(2006.01)I | 主分类号 | C11D1/83(2006.01)I |
| 代理机构 | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人 | 徐文权 |
| 主权项 | 一种用于太阳能硅片制造的清洗液，其特征在于：按质量百分比计包括1～10%的非离子表面活性剂，1～10%的阴离子表面活性剂，0.5～5%的金属离子络合剂，0.5～5%的缓蚀剂，余量为去离子水。 | ||
| 地址 | 710300 陕西省西安市沣京工业园谭滨北路3号 | ||