光掩模用基板组和光掩模组及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供光掩模用基板组和光掩模组及显示装置的制造方法。光掩模用基板组具有：第1光掩模用基板，其用于在主表面上形成待转印至被转印体的转印用图案而成为第1光掩模；以及第2光掩模用基板，其用于在主表面上形成待与所述转印用图案重叠地转印至所述被转印体的转印用图案而成为第2光掩模，其中，当设所述第1光掩模用基板的主表面上的图案区域内设定的任意的点M相对于基准面的高度为Zm，设所述第2光掩模用基板的主表面上的图案区域内的处于与所述第1光掩模用基板上的点M对应的位置处的点N相对于所述基准面的高度为Zn，并求出了所述Zm与所述Zn之差Zd时，在所述图案区域内，该Zd的最大值ΔZdmax为17μm以下。

主权项

一种光掩模用基板组，其具有：第1光掩模用基板，其用于在主表面上形成待转印至被转印体的转印用图案而成为第1光掩模；以及第2光掩模用基板，其用于在主表面上形成待与所述转印用图案重叠地转印至所述被转印体的转印用图案而成为第2光掩模，该光掩模用基板组的特征在于，当设所述第1光掩模用基板的主表面上的图案区域内设定的任意的点M相对于基准面的高度为Zm，设所述第2光掩模用基板的主表面上的图案区域内的处于与所述第1光掩模用基板上的点M对应的位置处的点N相对于所述基准面的高度为Zn，并求出了所述Zm与所述Zn之差Zd时，在所述图案区域内，该Zd的最大值ΔZdmax为17μm以下。