发明名称 一次性可编程器件的制造方法
摘要 本发明提供一种一次性可编程器件的制造方法,在对浮栅上方沉积介质层之前,先对其表面用特定的药液进行清洗,以去除浮栅上经刻蚀后残留的电荷或颗粒,以获得更清洁的表面,并且此方法不会损害浮栅本体。之后,再进行后续的介质层沉积。如此一来,一次性可编程器件的浮栅上方不会存在电荷或颗粒,避免了浮栅在存储电子时由于电子不稳定导致存储单元失效的情况。
申请公布号 CN103956339A 申请公布日期 2014.07.30
申请号 CN201410217798.5 申请日期 2014.05.21
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 许乐;张智侃;曹亚民
分类号 H01L21/8247(2006.01)I 主分类号 H01L21/8247(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 王宏婧
主权项 一种一次性可编程器件的制造方法,其特征在于,包含如下步骤:在一衬底上形成二栅极,用以分别作为控制栅和浮栅;形成掩蔽膜,所述掩蔽膜覆盖所述控制栅、浮栅及衬底;去除所述浮栅上的部分厚度的掩蔽膜;清洗所述浮栅;形成介质层,所述介质层覆盖所述掩蔽膜的表面;去除所述控制栅上的介质层和掩蔽膜;在所述控制栅和浮栅的两侧分别形成源极和漏极,所述控制栅和浮栅共用一源极或漏极。
地址 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号