| 摘要 |
1. Система для проецирования одного или нескольких синтетических оптических изображений, демонстрирующая повышенную устойчивость к внешнему воздействию, оказывающему отрицательное влияние на оптические свойства, которая включает:(a) одну или несколько структур пиктограмм изображений; и(b) одну или несколько частично или полностью включенных структур фокусирующих элементов пиктограмм изображений,где одна или несколько структур фокусирующих элементов пиктограмм изображений расположены относительно одной или нескольких структур пиктограмм изображений таким образом, что, по меньшей мере, часть фокусирующих элементов пиктограмм изображений формирует, по меньшей мере, одно синтетическое изображение, по меньшей мере, части пиктограмм изображений.2. Система по п.1, отличающаяся тем, что фокусирующие элементы пикограмм изображений являются преломляющими фокусирующими элементами с фокусным расстоянием, при этом система имеет коэффициент преломления от внешней поверхности до преломляющих поверхностей раздела, изменяющийся в интервале от первого до второго коэффициента преломления; при этом первый коэффициент преломления значительно или измеримо отличается от второго коэффициента преломления.3. Система по п.2, отличающаяся тем, что разница между первым коэффициентом преломления и вторым коэффициентом преломления приводит к изменению фокусного расстояния фокусирующих элементов, по меньшей мере, приблизительно на 0,1 микрон.4. Система по п.1, включающая (а) матрицу пиктограмм изображений; (b) матрицу фокусирующих элементов пиктограмм изображений, формируемую из первого материала, имеющего коэффициент прелом� |
