| 摘要 |
Vorrichtung zur Hochratenbedampfung von Metallen im Hochvakuum, umfassend: a) einen Beschichtungsraum innerhalb des Hochvakuums, der zumindest eine Öffnung zu dem Hochvakuum aufweist, so dass im Beschichtungsraum eine Hochvakuumbedingung entsteht; b) zumindest eine Verdampferquelle, die so angeordnet ist, dass sie Metalldampfpartikel in den Beschichtungsraum abgibt, wobei die Verdampferquelle im Beschichtungsraum während einer Beschichtungsphase einen Metalldampfdruck von mindestens 10 Pa erzeugt; c) wobei der Beschichtungsraum zumindest einseitig durch ein Substrat begrenzt wird; d) alle Flächen, die nicht beschichtet werden sollen, mit einer Anti-Haftbeschichtung versehen sind; und e) der Gesamtquerschnitt aller Öffnungen des Beschichtungsraums zu dem Hochvakuum weniger als 10% der Beschichtungsfläche des Substrats ausmacht, so dass während einer Beschichtungsphase eine Kondensationsrate des Metalldampfes > 10 nm/s ist. |
