Polarisationsmessvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage

摘要

Eine Polarisationsmessvorrichtung (34) für eine Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Mikrolithographie wird bereitgestellt. Die Polarisationsmessvorrichtung umfasst mindestens ein polarisationsmodulierendes Element (50; 148), welches monolithisch ausgebildet ist und entlang einer Translationsachse (58) variieriende Polarisatoreigenschaften aufweist, sowie ein polarisationsselektives Element (56), welches dem polarisationsmodulierenden Element (50; 148) nachgeordnet ist und dazu konfiguriert ist, Strahlung mit einer bestimmten Polarisationseigenschaft aus auftreffender Strahlung (64) zu selektieren.