| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种对硅进行化学机械抛光的抛光液。该抛光液中含有水，研磨颗粒、至少一种硅的增速剂和至少一种硅的抑制剂。本发明的抛光液通过调节硅的增速剂和抑制剂的量，可以调节硅与二氧化硅的选择比，提高平坦化效率。 | ||
| 申请公布号 | CN102101978B | 申请公布日期 | 2014.07.23 |
| 申请号 | CN200910201382.3 | 申请日期 | 2009.12.18 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬 |
| 分类号 | C08J5/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C08J5/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种抛光硅的化学机械抛光液，包含：水、研磨颗粒、至少一种硅的增速剂和至少一种硅的抑制剂，其特征在于，所述硅的抑制剂为含颜料亲和基团的星型聚合物，其中所述硅的增速剂为含有胍基团（<img file="FDA0000473481000000011.GIF" wi="520" he="219" />）的化合物，所述的含有胍基的化合物为单胍、双胍、聚胍类化合物及其酸加成盐。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||