发明名称 自参考干涉仪、对准系统和光刻设备
摘要 本发明公开了一种自参考干涉仪、对准系统和光刻设备。自参考干涉仪包括光学系统以将对准束分开来产生参考束和变换束。光学系统包括分束器以组合参考束和变换束,使得在参考束中的衍射级在空间上与变换束中的它们的各自的相反的衍射级重叠。检测器系统接收来自光学系统的在空间上重叠的参考束和变换束,和确定位置信号。检测器系统包括用于操控所述束的偏振的偏振系统,使得它们干涉,且所述偏振系统用于引导干涉的参考束和变换束至用于由干涉的束的强度变化确定位置信号的检测器。
申请公布号 CN102402141B 申请公布日期 2014.07.23
申请号 CN201110261691.7 申请日期 2011.09.06
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 L·夸迪伊
分类号 G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G02B27/10(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I 主分类号 G03F9/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 吴敬莲
主权项 一种自参考干涉仪,所述自参考干涉仪被布置成与标记和光刻设备一起使用,所述自参考干涉仪包括:‑光学布置(OPT),用于由对准束(AB)产生参考束和变换束,用于输出所述参考束和所述变换束至检测器(DET),用于引导对准束(AB)到标记(WM)上,且用于捕获由所述标记对所述对准束的衍射产生的衍射束,其中所述衍射束包括至少一个正衍射级和至少一个相对应的负衍射级;所述光学布置包括:·分束器(40),用于将所述衍射束分成第一束和第二束,且用于组合和输出所述参考束和所述变换束至所述检测器(DET),使得所述参考束中的衍射级在空间上与所述变换束中的它们的相对应的相反的衍射级重叠;·参考系统(10,11),用于由所述第一束产生所述参考束且用于引导所述参考束至所述分束器(40);·变换系统(30,31,32,60,41,10,11),用于将所述第二束变换成所述变换束且用于引导所述变换束至所述分束器(40);和‑检测器系统(DET),用于接收来自所述光学布置(OPT)的在空间上重叠的参考束和变换束,和用于确定位置信号,所述检测器系统包括:·偏振系统(80,81,83,86),用于操控所述参考束和所述变换束的偏振,使得它们相互干涉,且用于引导所述干涉的参考束和变换束至检测器,由此形成干涉图案;和·检测器(82,92),用于由所述干涉图案确定位置信号。
地址 荷兰维德霍温