发明名称 |
无定形导电性氧化物膜的形成方法 |
摘要 |
本发明提供无定形导电性氧化物膜的形成方法,其特征在于,进行以下工序:在基板上涂布含有a×y摩尔份的(A1)、a×(1-y)摩尔份的(A2)、1摩尔份的(B)和(C)的组合物,形成涂膜,在氧化性气氛下加热该涂膜,其中,(A1)选自由除铈以外的镧系元素中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐和卤化物的1种以上金属化合物,(A2)选自由铅、铋、镍、钯、铜和银中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐和卤化物的1种以上金属化合物;(B)选自由钌、铱、铑和钴中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐、卤化物、亚硝酰基羧酸盐、亚硝酰基硝酸盐、亚硝酰基硫酸盐和亚硝酰基卤化物的1种以上金属化合物;以及(C)含有选自羧酸、醇、酮、二醇和二醇醚的1种以上的溶剂。 |
申请公布号 |
CN103946930A |
申请公布日期 |
2014.07.23 |
申请号 |
CN201280056688.4 |
申请日期 |
2012.11.15 |
申请人 |
独立行政法人科学技术振兴机构 |
发明人 |
下田达也;李金望 |
分类号 |
H01B13/00(2006.01)I;C01G55/00(2006.01)I;H01B1/08(2006.01)I;H01B1/20(2006.01)I;H01B5/02(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I |
主分类号 |
H01B13/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
孔青;李炳爱 |
主权项 |
无定形导电性氧化物膜的形成方法,其特征在于,进行以下工序:在基板上涂布含有a×y摩尔份的(A1)、a×(1‑y)摩尔份的(A2)、1摩尔份的(B)和(C)的组合物,形成涂膜,在氧化性气氛下加热此涂膜,其中,(A1) 选自由除铈以外的镧系元素中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐和卤化物的1种以上金属化合物,(A2) 选自由铅、铋、镍、钯、铜和银中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐和卤化物的1种以上金属化合物;(B) 选自由钌、铱、铑和钴中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐、卤化物、亚硝酰基羧酸盐、亚硝酰基硝酸盐、亚硝酰基硫酸盐和亚硝酰基卤化物的1种以上金属化合物,其中,上述金属化合物中的至少1种由金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐和亚硝酰基羧酸盐中选择,a为0.3~6.0的数,y为0以上且不足1的数;以及(C) 含有选自羧酸、醇、酮、二醇和二醇醚的1种以上的溶剂。 |
地址 |
日本埼玉县 |