发明名称 无定形导电性氧化物膜的形成方法
摘要 本发明提供无定形导电性氧化物膜的形成方法,其特征在于,进行以下工序:在基板上涂布含有a×y摩尔份的(A1)、a×(1-y)摩尔份的(A2)、1摩尔份的(B)和(C)的组合物,形成涂膜,在氧化性气氛下加热该涂膜,其中,(A1)选自由除铈以外的镧系元素中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐和卤化物的1种以上金属化合物,(A2)选自由铅、铋、镍、钯、铜和银中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐和卤化物的1种以上金属化合物;(B)选自由钌、铱、铑和钴中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐、卤化物、亚硝酰基羧酸盐、亚硝酰基硝酸盐、亚硝酰基硫酸盐和亚硝酰基卤化物的1种以上金属化合物;以及(C)含有选自羧酸、醇、酮、二醇和二醇醚的1种以上的溶剂。
申请公布号 CN103946930A 申请公布日期 2014.07.23
申请号 CN201280056688.4 申请日期 2012.11.15
申请人 独立行政法人科学技术振兴机构 发明人 下田达也;李金望
分类号 H01B13/00(2006.01)I;C01G55/00(2006.01)I;H01B1/08(2006.01)I;H01B1/20(2006.01)I;H01B5/02(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I 主分类号 H01B13/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 孔青;李炳爱
主权项  无定形导电性氧化物膜的形成方法,其特征在于,进行以下工序:在基板上涂布含有a×y摩尔份的(A1)、a×(1‑y)摩尔份的(A2)、1摩尔份的(B)和(C)的组合物,形成涂膜,在氧化性气氛下加热此涂膜,其中,(A1) 选自由除铈以外的镧系元素中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐和卤化物的1种以上金属化合物,(A2) 选自由铅、铋、镍、钯、铜和银中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐和卤化物的1种以上金属化合物;(B) 选自由钌、铱、铑和钴中选择的金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐、硝酸盐、卤化物、亚硝酰基羧酸盐、亚硝酰基硝酸盐、亚硝酰基硫酸盐和亚硝酰基卤化物的1种以上金属化合物,其中,上述金属化合物中的至少1种由金属的羧酸盐、醇盐、二酮盐和亚硝酰基羧酸盐中选择,a为0.3~6.0的数,y为0以上且不足1的数;以及(C) 含有选自羧酸、醇、酮、二醇和二醇醚的1种以上的溶剂。
地址 日本埼玉县