用于NDC薄膜的离线监控方法

摘要

本发明提供一种用于NDC薄膜的离线监控方法，包括：第一步骤，在监控晶圆上依次生长一保护层和一粘合层；第二步骤，在所述粘合层上生长一铜层后，在所述铜层上生长一NDC薄膜，用光学量测机台对所述NDC薄膜进行测试，以监控所述NDC薄膜的各参数；第三步骤，在前步骤形成的NDC薄膜上再生长一铜层，在本步骤中形成的铜层上也再生长一NDC薄膜，用光学量测机台对在本步骤中形成的NDC薄膜进行测试，以监控本步骤中形成的NDC薄膜的各参数；第四步骤，重复第三步骤，其中，监控晶圆限定使用次数不大于5次。通过本发明实现了NDC薄膜的监控晶圆在工厂内的连续多次使用，减少了NDC薄膜的监控晶圆的回收次数，以及减少了NDC薄膜的监控晶圆的用量。

主权项

一种用于NDC薄膜的离线监控方法，其特征在于包括：第一步骤，在监控晶圆上依次生长一保护层和一粘合层；第二步骤，在所述粘合层上生长一铜层后，在所述铜层上生长一NDC薄膜，用光学量测机台对所述NDC薄膜进行测试，以监控所述NDC薄膜的各参数；第三步骤，在前步骤形成的NDC薄膜上再生长一铜层，在本步骤中形成的铜层上也再生长一NDC薄膜，用光学量测机台对在本步骤中形成的NDC薄膜进行测试，以监控本步骤中形成的NDC薄膜的各参数；第四步骤，重复第三步骤，其中，所述监控晶圆限定使用次数不大于5次。