发明名称 |
用于金属电沉积工艺的水平池的阳极结构 |
摘要 |
本发明涉及一种在电镀设备中用于析氧的电极,包含阀金属基材和外催化层,该基材包括具有面积为2cm<sup>2</sup>至8cm<sup>2</sup>的缝的金属板,所述缝以5cm至25cm的距离间隔开来。本发明还涉及一种包含至少一个所述电极的用于电镀工艺的水平电化学池,以及装备有至少一个所述池的电镀设备。本发明还涉及一种电镀工艺,包含在所述电极的表面上阳极析氧的步骤。 |
申请公布号 |
CN103946428A |
申请公布日期 |
2014.07.23 |
申请号 |
CN201280056364.0 |
申请日期 |
2012.11.23 |
申请人 |
德诺拉工业有限公司 |
发明人 |
J·E·戈麦斯德阿布瑞;T·欧伊什;A·卡尔德拉拉 |
分类号 |
C25D7/06(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I;C25D17/10(2006.01)I;C25D17/12(2006.01)I;C25C7/02(2006.01)I;C25B11/02(2006.01)I;C25B11/04(2006.01)I |
主分类号 |
C25D7/06(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
申发振 |
主权项 |
一种在电镀设备中用于析氧的电极,所述电极包含阀金属基材和外催化层,基材包含具有面积为2cm<sup>2</sup>至8cm<sup>2</sup>的缝的金属板,所述缝被以5cm至25cm的距离间隔开来。 |
地址 |
意大利米兰 |