发明名称 |
一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备 |
摘要 |
本实用新型公开了一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备,包括第一清洗装置,其特征在于:所述第一清洗装置包括清洗池、至少一个擦拭辊、至少一个支撑辊和若干导向辊,在清洗池内盛放有清洗液,在清洗液上方和内部设置有若干牵引薄膜的导向辊,在清洗池内设置有伸出清洗液液面的支撑辊,在支撑辊的上方设置有擦拭辊,所述薄膜通过支撑辊与擦拭辊之间的间隙。本实用新型解决了现有技术中无法较好清除纤维素膜表面沉积的粉尘,影响后续薄膜使用的问题,提供了一种结构简单,使用方便,能够去除粉尘,提高薄膜表面质量的去除高分子薄膜表面粉尘的设备。 |
申请公布号 |
CN203725406U |
申请公布日期 |
2014.07.23 |
申请号 |
CN201420085279.3 |
申请日期 |
2014.02.27 |
申请人 |
苏州奥特福环境科技有限公司 |
发明人 |
邢力;姚军 |
分类号 |
B08B1/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I |
主分类号 |
B08B1/02(2006.01)I |
代理机构 |
南京纵横知识产权代理有限公司 32224 |
代理人 |
董建林;季锐 |
主权项 |
一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备,包括第一清洗装置,其特征在于:所述第一清洗装置包括清洗池、至少一个擦拭辊、至少一个支撑辊和若干导向辊,在清洗池内盛放有清洗液,在清洗液上方和内部设置有若干牵引薄膜的导向辊,在清洗池内设置有伸出清洗液液面的支撑辊,在支撑辊的上方设置有擦拭辊,所述薄膜通过支撑辊与擦拭辊之间的间隙。 |
地址 |
215300 江苏省苏州市昆山市苇城南路1699号11层1103室 |