发明名称 |
利用应力梯度分离氮化物自支撑衬底的方法 |
摘要 |
利用应力梯度分离氮化物自支撑衬底的方法,涉及氮化物基光电器件。1)GaN层晶的第一性原理方法模拟计算;2)制样前对蓝宝石衬底预处理;3)GaN缓冲层的生长;4)GaN外延生长制备。利用分离能与应力的关系,在HVPE方法生长的GaN外延层中进行特殊处理,有效地控制GaN外延层厚度分布来调节应力梯度分布,以便GaN外延层在临界厚度实现自分离的现象。通过调控外延生长参数以实现原位GaN自分离技术,在HVPE中生长同时即可完成GaN自分离,方法简单,操作容易,实用性高。 |
申请公布号 |
CN103943467A |
申请公布日期 |
2014.07.23 |
申请号 |
CN201410208201.0 |
申请日期 |
2014.05.16 |
申请人 |
厦门大学 |
发明人 |
蔡端俊;林娜;吴洁君 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 |
代理人 |
马应森 |
主权项 |
利用应力梯度分离氮化物自支撑衬底的方法,其特征在于包括以下步骤:1)GaN层晶的第一性原理方法模拟计算:采用基于密度泛函理论的VASP程序包,电子‑离子相互作用采用投影缀加波赝势法(PAW)描述,平面波的截断动能取550eV,采用8×8×1的Monkhorst‑Pack k点网格方法,计算模型的基本单元由11层原子薄层组成,同时用<img file="FDA0000506546060000011.GIF" wi="108" he="66" />的真空来保证GaN表面模型上下表面无相互影响,周期性的超晶胞的表面为未吸附原子的情况,保留悬挂键以了解表面局域电子态的性质,为了确定分离能,定义表面分离能公式:<img file="FDA0000506546060000012.GIF" wi="541" he="140" />其中Es是弛豫的超晶胞的总能,E<sub>b</sub>是体材料GaN的总能,A是表面面积,n代表在超晶胞内的GaN原胞的数量;2)制样前对蓝宝石衬底预处理:首先将蓝宝石衬底置于MOCVD反应室后升至高温1200℃,在H<sub>2</sub>气氛环境下去除表面的沾污,净化表面,然后将温度控制在1200~1500℃,对蓝宝石衬底预退火处理;3)GaN缓冲层的生长:该过程分成低温生长和高温生长两部分,首先将温度降至550℃后,反应区通入三甲基镓(TMGa)与氨气(NH<sub>3</sub>),使用H<sub>2</sub>和N<sub>2</sub>作为反应物质的载气,沉积GaN第一缓冲层,再将温度升高至1050℃,沉积GaN第二缓冲层;4)GaN外延生长制备:通过HVPE方法在GaN第二缓冲层上生长GaN,得利用应力梯度分离氮化物自支撑衬底。 |
地址 |
361005 福建省厦门市思明南路422号 |