| 发明名称 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，解决了现有的阵列基板表面角段差大的问题。一种阵列基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的多层薄膜，至少一层薄膜具有薄膜图案，且至少一层薄膜在不同区域的厚度与形成该区域薄膜的衬底表面到衬底基板的距离成反比。 | ||
| 申请公布号 | CN103943633A | 申请公布日期 | 2014.07.23 |
| 申请号 | CN201410081521.4 | 申请日期 | 2014.03.06 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 刘耀;丁向前;李梁梁;白金超;刘晓伟;郭总杰 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的多层薄膜，其特征在于，至少一层薄膜具有薄膜图案，且至少一层薄膜在不同区域的厚度与形成该区域薄膜的衬底表面到衬底基板的距离成反比。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||