发明名称 |
一种宽光谱双层透明导电薄膜及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开的宽光谱双层透明导电薄膜自下而上依次为柔性衬底,ZnO薄膜和ZnO:F薄膜,其中,ZnO:F薄膜的F与Zn的原子比为1%~5%。该薄膜的制备采用的是磁控溅射法,在柔性衬底上先以纯ZnO陶瓷靶为靶材溅射一层ZnO薄膜,再以F与Zn原子比为1%~5%的ZnO陶瓷靶为靶材,溅射一层ZnO:F薄膜。本发明的宽光谱双层透明导电薄膜由于采用双层结构,使得薄膜迁移率大大提高,电阻率明显下降,显著提高了薄膜的电学性能,且该双层薄膜在可见光区域以及红外光区域均具有较高的透过率,平均透过率可以达到80%以上。本发明所用的材料成本低廉,制备过程简单,易于实现,适合制备大面积薄膜。 |
申请公布号 |
CN103938172A |
申请公布日期 |
2014.07.23 |
申请号 |
CN201410170858.2 |
申请日期 |
2014.04.25 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
朱丽萍;张翔宇 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
杭州求是专利事务所有限公司 33200 |
代理人 |
韩介梅 |
主权项 |
一种宽光谱双层透明导电薄膜,其特征在于自下而上依次为柔性衬底(1),ZnO薄膜(2)和ZnO:F薄膜(3),其中,ZnO:F薄膜的F与Zn的原子比为1%~5%。 |
地址 |
310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 |