发明名称 一种宽光谱双层透明导电薄膜及其制备方法
摘要 本发明公开的宽光谱双层透明导电薄膜自下而上依次为柔性衬底,ZnO薄膜和ZnO:F薄膜,其中,ZnO:F薄膜的F与Zn的原子比为1%~5%。该薄膜的制备采用的是磁控溅射法,在柔性衬底上先以纯ZnO陶瓷靶为靶材溅射一层ZnO薄膜,再以F与Zn原子比为1%~5%的ZnO陶瓷靶为靶材,溅射一层ZnO:F薄膜。本发明的宽光谱双层透明导电薄膜由于采用双层结构,使得薄膜迁移率大大提高,电阻率明显下降,显著提高了薄膜的电学性能,且该双层薄膜在可见光区域以及红外光区域均具有较高的透过率,平均透过率可以达到80%以上。本发明所用的材料成本低廉,制备过程简单,易于实现,适合制备大面积薄膜。
申请公布号 CN103938172A 申请公布日期 2014.07.23
申请号 CN201410170858.2 申请日期 2014.04.25
申请人 浙江大学 发明人 朱丽萍;张翔宇
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人 韩介梅
主权项 一种宽光谱双层透明导电薄膜,其特征在于自下而上依次为柔性衬底(1),ZnO薄膜(2)和ZnO:F薄膜(3),其中,ZnO:F薄膜的F与Zn的原子比为1%~5%。
地址 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号