| 发明名称 | 一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板，该衬底托板包括衬底片的台阶、阻挡热辐射圆环的台阶、限制阻挡热辐射圆环移动的台阶，三个台阶均为环形结构，该衬底托板为一圆形通孔；本实用新型中通过减小放置衬底的台阶宽度，从而减小衬底与托板间的接触面积，增大了生长过程中衬底的可生长面积；该实用新型与传统的衬底生长托板相比，增大了外延片的可利用面积，减少了对衬底表面的污染，提高了品质和成品率。 | ||
| 申请公布号 | CN203728962U | 申请公布日期 | 2014.07.23 |
| 申请号 | CN201420043728.8 | 申请日期 | 2014.01.23 |
| 申请人 | 新磊半导体科技（苏州）有限公司 | 发明人 | 杜全钢;李维刚;谢小刚;姜炜;冯巍;郭永平;蒋建 |
| 分类号 | C30B23/02(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C30B23/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人 | 张慧 |
| 主权项 | 一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板，其特征在于：该衬底托板包括衬底片的台阶（1）、阻挡热辐射圆环的台阶（2）、限制阻挡热辐射圆环移动的台阶（3），三个台阶均为环形结构，该衬底托板为一圆形通孔；阻挡热辐射圆环的台阶（2）在衬底片的台阶（1）和限制阻挡热辐射圆环移动的台阶（3）之间；所述衬底片的台阶（1）、阻挡热辐射圆环的台阶（2）、限制阻挡热辐射圆环移动的台阶（3）是以圆形通孔为中心的台阶结构。 | ||
| 地址 | 215151 江苏省苏州市大同路20号出口加工区D-1厂房 | ||