发明名称 采用光栅投影实现测量的工业内窥镜探头
摘要 一种采用光栅投影实现测量的工业内窥镜探头,属于无损检测领域,它包括外壳体、内壳体、CCD器件和成像物镜;在所述探头的横截面上,外壳体和内壳体均呈圆形,内壳体设置于外壳体内且其顶部与外壳体内壁相接,所述CCD器件和成像物镜均设置于内壳体内,CCD器件的靶心、成像物镜的中心与内壳体的中心共线,在外壳体和内壳体之间设有照明光源和光栅投影装置。本实用新型能够将成像、多条纹投射定标和照明全部集中在探头前端,实现了3D相位法测量,同时增加了探头空间的有效利用率,从而降低了无损检测的设备成本,提高了工作效率。
申请公布号 CN203732046U 申请公布日期 2014.07.23
申请号 CN201420110927.6 申请日期 2014.03.12
申请人 武汉华中天经光电系统有限公司 发明人 余永朝;闵志方;黄亮;闫峰;李苏
分类号 G01B11/25(2006.01)I 主分类号 G01B11/25(2006.01)I
代理机构 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人 周艳红
主权项 一种采用光栅投影实现测量的工业内窥镜探头,其特征在于:包括外壳体(1)、内壳体(2)、CCD器件(4)和成像物镜(3);在所述探头的横截面上,外壳体(1)和内壳体(2)均呈圆形,内壳体(2)设置于外壳体(1)内且其顶部与外壳体(1)内壁相接,所述CCD器件(4)和成像物镜(3)均设置于内壳体(2)内,CCD器件(4)的靶心、成像物镜(3)的中心与内壳体(2)的中心共线,在外壳体(1)和内壳体(2)之间设有照明光源和光栅投影装置(5)。
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