| 发明名称 | 线宽测量方法 | ||
| 摘要 | 一种线宽测量方法，包括：提供基底，所述基底的表面上形成有凸起的带线图案，所述带线图案具有宽度；在所述带线图案的宽度方向的两侧侧壁上分别形成第一测量结构和第二测量结构；去除所述带线图案；测量所述第一测量结构和第二测量结构的间距，所述间距去除设定误差后为所述带线图案的宽度。本发明利于降低测量过程中引入的不确定性，减小测量误差。 | ||
| 申请公布号 | CN102437067B | 申请公布日期 | 2014.07.23 |
| 申请号 | CN201010500353.X | 申请日期 | 2010.09.29 |
| 申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 尹海洲;朱慧珑;骆志炯 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I;G01B7/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种线宽测量方法，其特征在于，包括：提供基底，所述基底的表面上形成有凸起的带线图案，所述带线图案具有宽度；在所述带线图案的宽度方向的两侧侧壁上分别形成第一测量结构和第二测量结构；所述第一测量结构和第二测量结构的材料与所述带线图案的材料不同；去除所述带线图案；测量所述第一测量结构和第二测量结构的间距，所述间距去除设定误差后为所述带线图案的宽度。 | ||
| 地址 | 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 | ||