| 发明名称 | 二氧化硅去除溶液及其制备方法和应用 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种二氧化硅去除溶液及其制备方法和应用。所述二氧化硅去除溶液以质量百分比计含有24.0％～40.0％醋酸、3.4％～7.3％氢氟酸、16.0％～27.0％氟化铵，余量为水。本发明的二氧化硅去除溶液具有良好的选择性，即能够完全去除铝层表面的二氧化硅层以及铝层之间的二氧化硅层，而对铝层基本无腐蚀，所以能够最大程度地保持原有铝层的形貌。并且，利用本发明的二氧化硅去除溶液去除二氧化硅层时，操作简单且工艺成本低。 | ||
| 申请公布号 | CN103184113B | 申请公布日期 | 2014.07.23 |
| 申请号 | CN201110460354.0 | 申请日期 | 2011.12.31 |
| 申请人 | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 | 发明人 | 金波;董志刚 |
| 分类号 | C11D7/26(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 郭红丽 |
| 主权项 | 一种二氧化硅去除溶液，其特征在于，以质量百分比计，含有31.9%～40.0%醋酸、3.4%～4.5%氢氟酸、23.6%～27.0%氟化铵，余量为水。 | ||
| 地址 | 100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦9层 | ||