发明名称 一种特质细化HMX晶体及制备方法
摘要 本发明公开了一种特质细化HMX晶体及制备方法。所述晶体中HMX含量≥99.9%,晶体密度≥1.90g/cm<sup>3</sup>,晶体短长轴比≥0.8;晶体的中位粒径在10~30μm之间,粒度分布窄。制备方法包括:1)在带有夹套的结晶釜中,将HMX溶解在有机溶剂中,制得饱和溶液;2)将结晶釜的夹套内水温控制在0~40℃,向前述饱和溶液中,边搅拌边滴加反溶剂,形成过饱和溶液后晶核生成和晶体成长;3)待晶体完全析出后,将晶体在母液中进行超声处理,超声处理的时间在2~4h,超声频率为30KHz~50KHz。本发明操作简单,反溶剂用量少,反应条件温和,安全可靠,绿色高效。
申请公布号 CN103936534A 申请公布日期 2014.07.23
申请号 CN201410195695.3 申请日期 2014.05.09
申请人 北京理工大学 发明人 郭学永;张静元;焦清介;崔超;卢佳骥
分类号 C06B25/34(2006.01)I 主分类号 C06B25/34(2006.01)I
代理机构 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人 周媛
主权项 一种特质细化HMX晶体,其特征在于:所述晶体中HMX含量≥99.9%,晶体密度≥1.90g/cm<sup>3</sup>,晶体短长轴比≥0.8;晶体的中位粒径在10~30μm之间,粒度分布窄;所述晶体是由包括以下步骤的方法制备的:1)在带有夹套的结晶釜中,将HMX溶解在有机溶剂中,制得饱和溶液;2)将结晶釜的夹套内水温控制在0~40℃,向前述饱和溶液中,边搅拌边滴加反溶剂,形成过饱和溶液后晶核生成和晶体成长;3)待晶体完全析出后,在母液中对晶体进行超声处理,超声处理的时间在2~4h,超声频率为30KHz~50KHz;所述有机溶剂为丙酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺中的一种或几种;所述反溶剂为二氯甲烷、三氯甲烷、四氯化碳和乙醇、蒸馏水中的一种或几种。
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