发明名称 |
一种沉积物料供给设备和系统 |
摘要 |
本实用新型公开了一种沉积物料供给设备和系统,其中供给设备包括:光源、光处理通道和光接收器,所述光接收器接收从光源发出的并经过光处理通道的光。将上述沉积物料供给设备应用在阵列基板维修工艺中,光源发射的光通过光处理通道被通道中部设置的物料罐中的沉积物料吸收,被光处理通道另一端的光接收器接收,通过光源发射光的光强实现对沉积物料供给量的控制,如果物料罐内装有沉积工艺使用的金属粉尘,进而对化学气相沉积形成金属膜层的厚度进行控制,解决以往沉积过程中金属膜层厚度不均匀的问题,保证维修成功率,提高阵列基板的良品率。 |
申请公布号 |
CN203728123U |
申请公布日期 |
2014.07.23 |
申请号 |
CN201420001662.6 |
申请日期 |
2014.01.02 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
刘冲;赵海生 |
分类号 |
B65G43/08(2006.01)I |
主分类号 |
B65G43/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李迪 |
主权项 |
一种沉积物料供给设备,其特征在于,包括:光源、光处理通道和光接收器,其中所述光源设置在所述光处理通道的一端,所述光接收器设置在所述光处理通道的另一端,所述光接收器接收从光源发出的并经过光处理通道的光。 |
地址 |
100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 |