发明名称 |
波分复用解复用装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种波分复用解复用装置,其包括:透明基板,设置于至少一入射光线的光路上;第一全反射膜,设置于所述透明基板的上表面;多个滤光片,设置于所述透明基板的下表面,相邻滤光片之间具有固定间隔;第二全反射膜,至少设置于所述透明基板的下表面的裸露部分;其中,所述透明基板的厚度设置为任一条入射光线从一滤光片位置传递至相邻滤光片位置,需在所述透明基板内进行至少三次反射。通过调整透明基板的厚度,利用光路多次反射来实现复用解复用装置基板封装尺寸的压缩,有利于减小该装置的封装尺寸,其应用范围更广。 |
申请公布号 |
CN203732758U |
申请公布日期 |
2014.07.23 |
申请号 |
CN201420118695.9 |
申请日期 |
2014.03.17 |
申请人 |
苏州旭创科技有限公司 |
发明人 |
孙雨舟 |
分类号 |
G02B6/293(2006.01)I |
主分类号 |
G02B6/293(2006.01)I |
代理机构 |
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 |
代理人 |
杨林洁 |
主权项 |
一种波分复用解复用装置,其特征在于,包括:透明基板,设置于至少一入射光线的光路上;第一全反射膜,设置于所述透明基板的上表面;多个滤光片,设置于所述透明基板的下表面,相邻滤光片之间具有固定间隔;第二全反射膜,至少设置于所述透明基板的下表面的裸露部分;其中,所述透明基板的厚度设置为任一条入射光线从一滤光片位置传递至相邻滤光片位置,需在所述透明基板内进行至少三次反射。 |
地址 |
215123 江苏省苏州市工业园区星湖街328号创意产业园12-A3 |