| 发明名称 |
图案形成方法、用于该图案形成方法之光阻组成物、用于该图案形成方法之负型显影液、及用于该图案形成方法之负型显影液用洗涤液 |
| 摘要 |
一种图案形成方法包括(a)涂覆一种包括树脂之光阻组成物，此树脂包括由以下通式(NGH－1)表示之重复单元且因酸之作用增加极性及降低在负型显影液中之溶解度；(b)曝光；及(d)以负型显影液显影：;(NGH－1);其中RNGH1表示氢原子或烷基；及RNGH2至RNGH4各独立地表示氢原子或羟基，其条件为RNGH2至RNGH4至少之一表示羟基。 |
| 申请公布号 |
TWI446112 |
申请公布日期 |
2014.07.21 |
| 申请号 |
TW097113178 |
申请日期 |
2008.04.11 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 日本 |
发明人 |
椿英明;樽谷晋司;水谷一良;和田健二;星野涉 |
| 分类号 |
G03F7/038 |
主分类号 |
G03F7/038 |
| 代理机构 |
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代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
| 主权项 |
一种图案形成方法，其系包括：(a)涂覆一种包括树脂之光阻组成物，此树脂包括由以下通式(NGH-1)表示之重复单元且因酸之作用增加极性及降低在负型显影液中之溶解度，该负型显影液为实质上由有机溶剂组成之显影液；(b)曝光；及(d)以该负型显影液显影：其中RNGH1表示氢原子或烷基；且RNGH2至RNGH4各独立地表示氢原子或羟基，其条件为RNGH2至RNGH4至少之一表示羟基。 |
| 地址 |
日本 |
