发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 本发明的课题是在于提供一种可减少处理液的使用量的同时,可抑止处理液的温度变动,且具有被单纯化的装置构成之基板处理装置。;其解决手段是基板处理装置10具备:处理单元60,其系保持一个的基板W,处理保持后的一个基板;处理槽40,其系可同时收容复数的基板W,即一面循环供给用以浸渍基板而处理的处理液一面积蓄的处理槽;搬送装置,其系可同时搬送未满上述处理槽的基板收容可能数量的数量之基板。;又,搬送装置是至少将基板搬送至积蓄有上述处理液的上述处理槽。使用上述处理单元及上述处理槽的至少其中之一个来处理基板。
申请公布号 TWI446423 申请公布日期 2014.07.21
申请号 TW097107874 申请日期 2008.03.06
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 杢尾胜利
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种基板处理装置,其特征系具备:处理单元,其系具有:构成保持一个基板的保持机构,及构成对被保持于保持机构的基板供给处理液而处理的喷嘴;处理槽,其系可同时收容复数的基板,积蓄用以浸渍基板而处理的处理液;外槽,其系设于处理槽,构成回收从处理槽溢出的处理液;循环路线,其系设于处理槽与外槽之间,可使溢出至外槽的处理液回到处理槽;及搬送装置,其系具有:可转动的支撑手臂,及被支撑手臂支撑的至少二个的保持部,至少二个的保持部系可对支撑手臂互相独立动作,各保持部系可保持一个的基板,又,上述搬送装置系构成至少藉由二个的保持部来将未满处理槽所能收容基板的数量,即一个以上的基板同时往处理槽内搬送于垂直方向,且至少藉由二个个保持部来将一个的基板搬送于水平方向至处理单元内,构成利用上述处理单元及上述处理槽的至少任一个来处理基板。
地址 日本