发明名称 |
基板处理装置,基板搬送装置,基板夹持装置,以及药物处理装置 |
摘要 |
本发明系关于一种可提高基板处理过程之工作时间的基板处理装置。作为基板处理装置之研磨装置,系具备对半导体晶圆(W)进行研磨之复数个研磨部(3a、3b)、及搬送晶圆(W)之摆动运送器(7)。摆动运送器(7),系具备夹持晶圆(W)之晶圆夹持机构(112)、沿着研磨部(3a)之框体的框架(102)而使晶圆夹持机构(112)上下移动的上下移动机构(104、106)、及以连接框架(102)之轴为中心而使晶圆夹持机构(112)回旋的回旋机构(108、110)。 |
申请公布号 |
TWI446476 |
申请公布日期 |
2014.07.21 |
申请号 |
TW096106357 |
申请日期 |
2007.02.26 |
申请人 |
荏原制作所股份有限公司 日本 |
发明人 |
高桥信行;西田弘明;鸟居弘臣;矶部壮一;曾根忠一;小菅隆一;金子浩之;外崎宏;三仓崇夫;小川贵弘;杉田谦一 |
分类号 |
H01L21/677;H01L21/67 |
主分类号 |
H01L21/677 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
主权项 |
一种基板处理装置,系具有对基板进行预定处理之复数个处理部、及在上述复数个处理部间搬送上述基板之基板搬送机构,其中,上述基板搬送机构系具备:基板夹持机构,系夹持上述基板;上下移动机构,系沿着上述复数个处理部中之1个处理部框体的框架而使上述基板夹持机构上下移动;及回旋机构,系以上述框架为中心或以邻接上述框架之轴为中心而使上述基板夹持机构回旋。 |
地址 |
日本 |