发明名称 投影光学系统、曝光装置以及半导体元件的制造方法
摘要 一种可抑制光学特性的劣化且可减少晶圆上的OoB照射量的投影光学系统。投影光学系统具有第1反射镜及第2反射镜,该第1反射镜对于与特定的第1波长光不同的第2波长光的反射率低于特定反射率,该第2反射镜对于上述第2波长光的反射率高于上述特定反射率。于将投影光学系统的反射镜分为与晶圆上的不同的2点相对应的反射区域重叠的比率较大的反射镜(M1、M2、M5、M6)、以及反射区域重叠的比率较小的反射镜(M3、M4)时,将反射区域重叠的比率较小的反射镜中,在投影光学系统的光路中位于最上游的反射镜(M3)设为第2反射镜。
申请公布号 TWI446365 申请公布日期 2014.07.21
申请号 TW096105735 申请日期 2007.02.15
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 村上胜彦;小宫毅治
分类号 G21K1/06;H01L21/027 主分类号 G21K1/06
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种投影光学系统,是将第1面的图案的像投影至第2面,其特征在于,上述投影光学系统包括:对特定波长光的反射率低于特定反射率的第1反射镜,以及对于上述波长光的反射率高于上述特定反射率的第2反射镜;且沿自上述第1面朝向上述第2面的光路,上述第1反射镜较上述第2反射镜更靠近第1面侧。
地址 日本