发明名称 Versorgungsendblock für ein rotierendes Magnetron
摘要 Versorgungsendblock zur Versorgung einer Sputterkathode mit einem Kühlmittel, umfassend ein Gehäuse (2) mit einer Anschlussöffnung (21) und einer die Anschlussöffnung (21) umschließenden ersten Befestigungsfläche (22) zur Anbringung des Gehäuses (2) an einer Stützfläche (11), sowie mit einer Lageröffnung (23), ein in der Lageröffnung (23) angeordnetes Trägerbauteil (3) mit einem Wellenlager (31), eine im Wellenlager (31) des Trägerbauteils (3) drehbar gelagerte Welle (4) zur Anbringung eines Targetrohrs, ein Stützmittel (35) zur Anbringung eines Magnetsystems, im Gehäuse (2) relativ zum Trägerbauteil (3) ortsfest angeordnete Kühlmittelleitungen mit Kühlmittelanschlüssen (51), wobei die Kühlmittelleitungen aus mindestens zwei Leitungsabschnitten (36, 55, 71) zusammengesetzt sind, welche durch eine Steckverbindung lösbar miteinander verbindbar sind, und wobei ein erster Leitungsabschnitt (36) durch das Trägerbauteil (3) führt und ein zweiter Leitungsabschnitt (55) durch ein Anschlussbauteil (5) führt, an welchem die Kühlmittelanschlüsse (51) angeordnet sind, wobei das Trägerbauteil (3) und das Anschlussbauteil (5) an ihren einander zugewandten Seiten komplementär ausgebildete Steckverbinder (37, 56) aufweisen.
申请公布号 DE102009033546(B4) 申请公布日期 2014.07.17
申请号 DE20091033546 申请日期 2009.07.16
申请人 VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH 发明人 HEINRICH, HANS-JÜRGEN;SEYFERT, ULF, DR.
分类号 H01J37/34;C23C14/34;H01J23/05 主分类号 H01J37/34
代理机构 代理人
主权项
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