发明名称 一种物理气相沉积PVD溅射镀膜装置
摘要 本实用新型实施例提供一种物理气相沉积PVD溅射镀膜装置,涉及显示技术领域,通过对光谱吸收装置接收辉光的波长的判断,确定靶材是否被击穿,减小了靶材击穿事故的发生率,提高了生产产品的成功率。该物理气相沉积PVD溅射镀膜装置包括真空腔体,设置于所述真空腔体内的靶材、基板及供气系统,设置于所述真空腔体内的光谱吸收装置,设置于所述真空腔体外与所述光谱吸收装置连接的光谱分析仪,以及与所述光谱分析仪连接的报警装置。
申请公布号 CN203715716U 申请公布日期 2014.07.16
申请号 CN201420042074.7 申请日期 2014.01.22
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 李正亮;刘震;孙冰;曹占锋
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种物理气相沉积PVD溅射镀膜装置,包括真空腔体,设置于所述真空腔体内的靶材、基板及供气系统,其特征在于,所述装置还包括:设置于所述真空腔体内的光谱吸收装置,设置于所述真空腔体外与所述光谱吸收装置连接的光谱分析仪,以及与所述光谱分析仪连接的报警装置;其中,所述光谱吸收装置接收镀膜过程中所述供气系统提供的气体发出的辉光,并将所述辉光传输至所述光谱分析仪,所述光谱分析仪对所述辉光分析获得所述辉光的波长,所述报警装置获取所述波长,并判断所述波长是否在预设波长范围内,若所述波长不在所述预设波长范围内,发出报警。
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