一种用于光刻装置的双面套刻系统及方法

摘要

本发明公开一种用于光刻装置的双面套刻系统，包括：一照明模块，用于提供辐射束；一支撑结构，用于支撑图案形成装置；一投影物镜，用于将图案成像至晶圆，该晶圆包括一位于背面的图案，该晶圆经过曝光后正面获得一对准标记和一套刻图案，一支撑结构，用于固定晶圆；一双面套刻误差测量装置，用于测量该套刻图案与该背面图案的相对位置误差，一正面对准系统，用于确定该晶圆正面的对准标记位置。本发明还同时公开一种用于光刻装置的双面套刻方法。

主权项

一种用于光刻装置的双面套刻系统，其特征在于，包括：一照明模块，用于提供辐射束；一支撑结构，用于支撑图案形成装置；一投影物镜，用于将图案成像至衬底，所述衬底包括一位于背面的图案，所述衬底经过曝光后正面获得一对准标记和一套刻图案，一支撑结构，用于固定衬底；一双面套刻误差测量装置，用于测量所述套刻图案与所述背面图案的相对位置误差，一正面对准系统，用于确定所述衬底正面的对准标记位置。