发明名称 |
光刻投影物镜 |
摘要 |
一种光刻投影物镜,把掩模的图像聚焦成像在硅片上,从掩模开始包括沿光轴依次设置的:第一透镜组、第二透镜组、孔径光阑AS、相对于孔径光阑与第二透镜组对称的第三透镜组、相对于孔径光阑与第一透镜组对称的第四透镜组。 |
申请公布号 |
CN102707415B |
申请公布日期 |
2014.07.16 |
申请号 |
CN201210195608.5 |
申请日期 |
2010.03.23 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
武珩;黄玲 |
分类号 |
G02B13/18(2006.01)I;G02B13/22(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B13/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种光刻投影物镜,把掩模的图像聚焦成像在基底上,从掩模开始包括沿着光轴依次设置的:具有正光焦度的第一透镜组;具有负光焦度的第二透镜组;孔径光阑AS;具有负光焦度的第三透镜组,相对于孔径光阑与第二透镜组对称;具有正光焦度的第四透镜组,相对于孔径光阑与第一透镜组对称;第一透镜组接收来自掩模的光线,包含五个光焦度依次为负、负、正、正、正的透镜,第一透镜和第二透镜组成具有负光焦度的子透镜组G1‑1n;第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线,准直后出射至第三透镜组,第二透镜组包含四个光焦度依次为负、正、负、正的透镜,第二透镜和第三透镜组成具有负光焦度的子透镜组G2‑1n。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |