发明名称 光刻投影物镜
摘要 一种光刻投影物镜,把掩模的图像聚焦成像在硅片上,从掩模开始包括沿光轴依次设置的:第一透镜组、第二透镜组、孔径光阑AS、相对于孔径光阑与第二透镜组对称的第三透镜组、相对于孔径光阑与第一透镜组对称的第四透镜组。
申请公布号 CN102707415B 申请公布日期 2014.07.16
申请号 CN201210195608.5 申请日期 2010.03.23
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 武珩;黄玲
分类号 G02B13/18(2006.01)I;G02B13/22(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G02B13/18(2006.01)I
代理机构 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人 王光辉
主权项 一种光刻投影物镜,把掩模的图像聚焦成像在基底上,从掩模开始包括沿着光轴依次设置的:具有正光焦度的第一透镜组;具有负光焦度的第二透镜组;孔径光阑AS;具有负光焦度的第三透镜组,相对于孔径光阑与第二透镜组对称;具有正光焦度的第四透镜组,相对于孔径光阑与第一透镜组对称;第一透镜组接收来自掩模的光线,包含五个光焦度依次为负、负、正、正、正的透镜,第一透镜和第二透镜组成具有负光焦度的子透镜组G1‑1n;第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线,准直后出射至第三透镜组,第二透镜组包含四个光焦度依次为负、正、负、正的透镜,第二透镜和第三透镜组成具有负光焦度的子透镜组G2‑1n。
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