图案化制程;PATTERNING PROCESS

摘要

一种图案化制程。提供具有第一区域及第二区域的待图案化层。于待图案化层上形成罩幕层。将罩幕层图案化,以于第一区域中形成第一开孔以及于第二区域中形成第二开孔。于第一开孔之侧壁上形成经掺杂之多晶矽间隙壁。以经掺杂之多晶矽间隙壁及经图案化的罩幕层为罩幕,移除部分待图案化层,以于第一区域中形成第三开孔以及于第二区域中形成第四开孔。