鋶盐、高分子化合物、光阻材料及图案形成方法与该高分子化合物之制造方法;SULFONIUM SALT, POLYMER, POLYMER MAKING METHOD, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

摘要

本发明提供通式(1a)表示之鋶盐;(R 1 表示H、F、CH3或CF3。R 1a ~R 1m 表示氢原子、或也可经杂原子取代、也可插入杂原子之1价烃基。L表示单键、或也可经杂原子取代、也可插入杂原子之2价烃基。X表示部分或全部氢原子也可取代为氟原子之2价伸烷基。n表示0或1。)本发明之具有聚合性阴离子之鋶盐，能以良好效率切断化学增幅型光阻材料中之酸不稳定基，作为用以制造感放射线光阻材料之基础树脂的单体非常有用。