发明名称 用于光罩检查系统的相位光栅;PHASE GRATING FOR MASK INSPECTION SYSTEM
摘要 本发明揭示光谱纯度滤光器或SPF。此等SPF经设计以阻断一EUV光罩检查系统中之1030奈米驱动雷射及其他非所要之带外光。在本发明中提供用于近法线入射及切线入射之不同相位光栅组态且该等组态经特定组态以用于EUV光罩检查。
申请公布号 TW201428420 申请公布日期 2014.07.16
申请号 TW102141129 申请日期 2013.11.12
申请人 克莱谭克公司 发明人 王代冕;可哈达金 欧雷格;瓦克 丹尼尔;王 历;刘燕维
分类号 G03F1/84(2012.01);G03F1/22(2012.01) 主分类号 G03F1/84(2012.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 KLA-TENCOR CORPORATION 美国