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经营范围
发明名称
氧化物烧结体、使用其的溅镀靶材及氧化物膜、光电转换元件及其制造方法;SINTERED OXIDE, SPUTTERING TARGET USING THE SAME, AND OXIDE FILM, PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
摘要
本发明的目的在于提供一种自化合物薄膜太阳电池的n型半导体层到p型半导体层表面可添加特定元素的溅镀靶材用氧化物烧结体。本发明的氧化物烧结体是含有锌、及至少一种电离电位Ip为4.5 eV≦Ip≦8.0 eV且原子半径d为1.20 ≦d≦2.50 以下的元素X(其中,仅添加Mg的情况除外)的氧化物烧结体,其特征在于:具有0.0001≦X/(Zn+X)≦0.20的组成比,且烧结密度为95%以上。
申请公布号
TW201428121
申请公布日期
2014.07.16
申请号
TW102141907
申请日期
2013.11.18
申请人
东曹股份有限公司
发明人
秋池良;仓持豪人;玉野公章
分类号
C23C14/34(2006.01)
主分类号
C23C14/34(2006.01)
代理机构
代理人
詹铭文;叶璟宗
主权项
地址
TOSOH CORPORATION 日本
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