发明名称 美容方法;COSMETIC METHOD
摘要 本发明提供一种美容方法,其是凹凸之修补效果优异,并可容易卸除上妆化妆料及/或防晒化妆料的美容方法。本发明的美容方法包含下述步骤:在皮肤上黏贴薄膜的基材膜面之步骤、除去黏贴有薄膜的支撑物之步骤,以及在该皮肤上涂布上妆化妆料及/或防晒化妆料之步骤,其中,薄膜包含膜厚10至500nm的基材膜与支撑物。
申请公布号 TW201427710 申请公布日期 2014.07.16
申请号 TW102136941 申请日期 2013.10.14
申请人 资生堂股份有限公司 发明人 木村朋子;菅野直美;八卷悟史
分类号 A61K8/72(2006.01);A61K9/70(2006.01);A61Q1/12(2006.01);A61Q1/14(2006.01) 主分类号 A61K8/72(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 SHISEIDO COMPANY, LTD. 日本