| 发明名称 | 一种湿法刻蚀设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及显示设备技术领域，具体涉及了一种湿法刻蚀设备。该湿法刻蚀设备包括用于刻蚀基板的腔室，还包括第一驱动机构、第二驱动机构、控制机构和感测机构，第一驱动机构和第二驱动机构相互独立设置；控制机构与第一驱动机构和第二驱动机构分别连接，用于控制第一驱动机构和第二驱动机构分别带动基板在腔室内移动；感测机构与基板对应设置，用于将基板的位置信号反馈给控制机构。该湿法刻蚀设备采用双驱动机构的传动方式，当其中一套驱动机构发生故障时，可以实现不用占用生产时间去维修而立即运行另一套驱动机构，减少了基板因过刻而造成的报废，节约了制造成本，提高了产品的良率，有效解决了产能瓶颈。 | ||
| 申请公布号 | CN103928371A | 申请公布日期 | 2014.07.16 |
| 申请号 | CN201410156362.X | 申请日期 | 2014.04.17 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 李佳 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李迪 |
| 主权项 | 一种湿法刻蚀设备，包括用于刻蚀基板（6）的腔室（5），其特征在于，还包括：第一驱动机构（1）、第二驱动机构（2），所述第一驱动机构（1）和第二驱动机构（2）相互独立设置；控制机构（4），所述控制机构（4）与所述第一驱动机构（1）和第二驱动机构（2）分别连接，用于控制第一驱动机构（1）和第二驱动机构（2）分别带动所述基板（6）在腔室（5）内移动；感测机构（3），所述感测机构（3）与基板（6）对应设置，用于将基板（6）的位置信号反馈给所述控制机构（4）。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||