发明名称 电致化学抛光方法
摘要 本发明提供一种电致化学抛光方法,包括以下步骤:配制含有电活性中介体、pH调节剂、粘度调节剂和抑制剂的工作液;将工作电极工作面与工件表面平行相对设置,工作电极工作面具有小于1μm平整度;将工作电极工作面和工件表面浸入工作液中,通过微纳复合进给机构调整工作电极工作面与工件表面的间距至0.05μm~20μm;启动电源使工作电极和辅助电极通电,工作电极工作面附近的电活性中介体通过电化学反应生成刻蚀剂,通过刻蚀剂扩散至工件表面并发生扩散控制的刻蚀反应,对工件表面局部高点进行选择性刻蚀,实现对工件表面无应力抛光。
申请公布号 CN103924287A 申请公布日期 2014.07.16
申请号 CN201410185241.8 申请日期 2014.05.04
申请人 大连理工大学;厦门大学 发明人 周平;康仁科;单坤;时康;蔡吉庆;董志刚;郭东明
分类号 C25F3/12(2006.01)I;H01L21/3063(2006.01)I 主分类号 C25F3/12(2006.01)I
代理机构 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人 贾汉生;李馨
主权项 一种电致化学抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:配制含有电活性中介体的工作液;将工作电极工作面和工件表面浸入工作液中,所述工作电极工作面与工件表面平行相对设置,所述工作电极工作面具有小于1μm的平整度和小于0.05μm的粗糙度;启动电源给工作液中的工作电极和辅助电极通电,使工作电极工作面通过电化学作用产生刻蚀剂,控制工作电极和工件表面间隙为0.05μm~20μm,进行扩散控制的选择性刻蚀,实现工件表面抛光;其中所述电活性中介体为经过电化学反应能转变成刻蚀剂的物质,所述刻蚀剂为能与工件发生化学反应的离子或者自由基基团。
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