发明名称 |
微影装置及方法;LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD |
摘要 |
本发明揭示一种微影装置,该微影装置包括:一辐射源,该辐射源经组态以产生一辐射光束;及一支撑件,该支撑件经组态以支撑一图案化元件。该图案化元件经组态以向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束。一腔室位于该辐射源与该图案化元件之间。该腔室含有经组态以反射该辐射光束之至少一光学组件,且经组态以准许辐射自该辐射源传递通过该腔室。一隔膜经组态以准许该辐射光束之传递,且防止污染粒子传递通过该隔膜。一粒子截留结构经组态以准许气体沿着自该腔室内部至该腔室外部之一间接路径流动。该间接路径经组态以实质上防止污染粒子自该腔室内部传递至该腔室外部。 |
申请公布号 |
TW201428437 |
申请公布日期 |
2014.07.16 |
申请号 |
TW103114084 |
申请日期 |
2011.04.19 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
亚库宁 安卓 米克哈洛维奇;白尼 凡丁 叶弗真叶米希;洛卜史塔 艾瑞克 罗勒夫;凡 德 萧特 海曼 克莱斯;史蒂文生 路卡斯 亨利克斯 乔汉斯;凡 卡姆潘 马腾 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林嘉兴 |
主权项 |
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地址 |
ASML NETHERLANDS B. V. 荷兰 |