| 发明名称 | 一种用于低介电材料的抛光液及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种用于低介电材料的抛光液，包括如下组分：三氧化二铝溶胶磨料1～10份，加速剂0.01～1份，表面活性剂0.01～0.1份，氧化剂0.5～0.8份，缓蚀剂0.1～3份，去离子水5～20份，以重量份计。本发明制得的抛光液抛光效率高，抛光过程中不会产生腐蚀性，抛光质量好。 | ||
| 申请公布号 | CN103923568A | 申请公布日期 | 2014.07.16 |
| 申请号 | CN201410157521.8 | 申请日期 | 2014.04.21 |
| 申请人 | 杨飏;宋奇吼 | 发明人 | 杨飏;宋奇吼 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天平专利商标代理有限公司 11239 | 代理人 | 王雅辉 |
| 主权项 | 一种用于低介电材料的抛光液，其特征在于包括如下组分：三氧化二铝溶胶磨料1～10份，加速剂0.01～1份，表面活性剂0.01～0.1份，氧化剂0.5～0.8份，缓蚀剂0. 1～3份，去离子水5～20份，以重量份计。 | ||
| 地址 | 210012 江苏省南京市溧水区永阳镇天生桥大道688号溧水区科创中心 | ||